掀翻时代的男人

“苏总，这到底是真是假啊！”

几名远扬半导体的高层，一个个都红着眼眶，把目光不断在苏扬和光刻机的身上徘徊。

作为半导体制造业皇冠上的明珠，光刻机的意义不言而喻。

所谓IC，就是集成电路的英文简写。

IC设计是高端技术，也是inter等公司，能屹立于半导体行业巅峰最重要的因素之一。

主要根据芯片的设计目的，进行逻辑设计和规则制定，并根据设计图制作掩模，以供后续光刻步骤使用。

而IC制造，就是半导体芯片的制造了。

一般，要实现芯片电路图从掩模上转移至硅片上，并实现预定的芯片功能。

包括了光刻、刻蚀、离子注入、薄膜沉积、化学机械研磨等步骤。

至于IC封测，就是完成对芯片的封装和性能、功能测试，是产品交付前的最后工序。

IC设计就不提了，苏扬有苹果A6处理器的技术，其中就包括了32nm芯片的设计。

另外，商城挂着的inter酷睿系列，也有45nm——14nm芯片的工艺技术。

而在IC制造中，光刻又是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。

其中的难点和关键点，在于将电路图从掩模上转移至硅片上。

这一过程，目前只能通过光刻，才能最有效地实现。

所以，光刻的工艺水平，往往直接决定了芯片的制程水平和性能水平。

安正国找来技术人员和材料，在苏扬的指导下，这些专业生产芯片的员工，初步了解到这台光刻机的使用流程。

光刻的原理，实际上非常简单。

在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性的光刻胶，再用光线透过掩模照射在硅片表面。

被光线照射到的光刻胶，会发生反应。

此后，再用特定的溶剂洗去被照射或未被照射的光刻胶，就实现了电路图从掩模到硅片的转移。

这和华夏古代的印刷术，实际上有一些相似之处，但光刻技术却比印刷术难了千万倍。

一般的光刻步骤，有气相成底膜、旋转涂胶、软烘、曝光、显影、坚膜。

接着，就是进行检测，主要是显影检测，让合规的硅片进入后续的蚀刻流程。

所谓蚀刻，便是通过化学或物理的方法，有选择地从硅片表面，除去不需要材料的过程。

完成之后，就能通过特定溶剂，洗去硅片表面残余的光刻胶了。

当然，这是最简易的光刻步骤，在实际生产制造中，比这复杂了上百倍。

从开始光刻，到最后洗去残余的光刻胶，几个步骤，就足足花了三个多小时。

当然，这里面也有一些员工刚刚接触新设备，操作不顺手的因素。

当时间来到下午四点半的时候。

车间内，一片惊喜和欢腾的景象。

“出来了，居然真的做出来了！”

“60nm的电路图，居然真的被我们转移到了硅片上。”

“不可思议啊！全华夏能做60nm芯片的企业，不超过三家，而且全是在18年下半年才刚刚突破的技术，还是在实验室里！做到量产的话，得到今年年底，甚至是明年年初去了。”

“是啊，而我们现在，却拥有了一台可以量产60nm芯片的光刻机，如果操作熟练了，速度提上去，再进行交替光刻，一天至少可以造上数百片12寸的圆晶啊！”

“这是一个突破，了不起的突破，如果我们把这里发生的事情，宣布出去，足以震惊整个华夏，乃至是中央都要被惊动！”

华夏在半导体行业，被压了太多年了。

从上个世纪以来，就一直跟在西方国家的屁股后面跑，说是向人家乞讨技术也不为过。

虽然60nm芯片的量产，和45nm芯片的量产，还有一定的差距。

但是，在工艺水平上，也能证明华夏没比inter等落后太多了。

这是一个十分涨士气的突破。

一旁，刘元龙沉声道：“各位，你们难道没有意识到吗？刚才我们用的，只是这台光刻机最底线的精度！”

这话一出，几名兴奋的家伙，立刻止住了话音，转而张了张嘴巴，眼睛立刻挣得大大的。

“是啊，刚才用的还是最低的精度！”

“没错，往上一个刻度的话，岂不是意味着……45nm甚至32nm的芯片也有可能了？”

“不对，我之前看过一篇学术报告，EUV光刻技术的真正领域，是32nm，不，是22nm以下的领域！”

“22nm以下，这……这也太疯狂了吧。”

“……”

说着，安正国立刻召集人手，搬来相应的半导体材料。

半导体芯片生产主要分为IC设计、IC制造、IC封测三大环节。

因此，也不怪几个搞半导体的家伙，像是痴·汉一样看着他。

苏扬笑道：“行了，你们也别这样看我，是真是假，我嘴上说了也没用，召集人员进行一次实验，不就一目了然了？安总，工厂内应该是有光刻胶和硅片的吧？”

安正国一愣，连忙道：“有，都储存着呢，我马上找人来进行实验。”

苏扬的话音落下。

现场陡然变得一片寂静。

四名高冷的保镖们不知所云，作为退役的军人，他们对这些科技玩意儿一无所知，完全听得云里雾里。

芯片在生产中需要进行20-30次的光刻，耗时占到IC生产环节的50%左右，占芯片生产成本的三分之一。

通常意义上来说，只要解决光刻机的问题，那么芯片制造的工程，就完结了一半。

“是啊，www.44pq.com，这岂不是意味着……它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸了！！！”

“苏总，您别不是在逗我们开心啊，现在全球范围内，绝对没有任何一家半导体公司，能造出这样的设备！”

但看到半导体公司的人，一个个都瞠目结舌，傻了似的，又觉得boss的话不明觉厉。

短暂的寂静之后，便是一片哗然，安正国等七人议论纷纷。

“当然，最主要的还是这台光刻机的光源，并非是目前国际国内流行的深紫外光。”

“www.44pq.com，也就是极紫外光作为光源。”

“这……”

“www.44pq.com？”

“怎么可能，我前两天才刚刚看的新闻，尼康公司的光刻机，也才在准备进发32nm半导体工艺，而光源依旧用的是193nm的深紫外光啊！”

苏扬看了半秒刘元龙，道：“这些设备，的确是最新的半导体核心设备，尤其是光刻机。”

说着，指着光刻机道：“这台光刻机里面的激光器、光束矫正器、能量控制器、光束形状设置、遮光器、能量探测器、掩模版都是国际最前沿的技术产品。”

苏扬继续道：“另外，掩膜台的运动控制精度达到纳米级，物镜、量台、曝光台、内部封闭框架、减振器等物，也都是目前最先进的产品。”

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